Китайские производители микросхем всё чаще обращаются к властям с предложением развивать отечественный аналог голландской компании ASML — мирового лидера в производстве литографического оборудования для изготовления передовых чипов. Идея состоит в том, чтобы ускорить независимость от импортных технологий и снизить уязвимость отрасли к внешним санкциям и ограничениям. Создание собственной ASML требует больших инвестиций в исследования и разработки, сотен высококвалифицированных инженеров и продолжительной кооперации между вузами, научными институтами и промышленностью. Помимо финансовых вложений, необходима масштабная программа локализации цепочек поставок: производство оптики, лазерных систем, вакуумного оборудования и сложной электроники.

Это долгий и технологически сложный путь — от элементной базы до точных систем контроля и программного обеспечения. При этом у Китая есть заметные преимущества: крупный внутренний рынок, государственная поддержка в виде субсидий и инфраструктурных проектов, а также опыт локализации сложных индустриальных направлений. Уже сегодня ряд китайских компаний наращивает компетенции в смежных областях, постепенно приближаясь к решению ключевых задач литографии. В реальности создание полноценной альтернативы ASML в ближайшие годы маловероятно, особенно для самых передовых EUV-литографов — они требуют уникальных материалов и ноу‑хау, накопленных десятилетиями.

Тем не менее развитие собственных систем DUV-литографии и постепенная интеграция в глобальные цепочки могут значительно укрепить технологическую самостоятельность Китая и снизить риски, связанные с внешними ограничениями. Итог: амбициозная инициатива по созданию «китайской» ASML реалистична лишь при долгосрочной государственной стратегии, масштабных инвестициях и тесном сотрудничестве науки и промышленности. Это не быстрый путь к полной независимости, но важный шаг к повышению технологической безопасности и конкурентоспособности национальной микропроцессорной отрасли.