Китайские производители полупроводников выступили с инициативой, предложив правительству разработать отечественный эквивалент голландской компании ASML — мирового лидера в производстве литографического оборудования для чипов. По мнению отрасли, подобный шаг поможет снизить зависимость от импортных технологий и укрепить национальную безопасность в условиях растущих внешних ограничений. Эксперты и представители компаний отмечают, что современные санкции и экспортные ограничения ограничивают доступ Китая к передовому оборудованию, необходимому для производства самых совершенных микросхем.

Создание национального поставщика литографии, способного конкурировать с ASML, рассматривается как долгосрочная стратегическая цель, требующая крупных инвестиций, координации научно-исследовательских усилий и поддержки со стороны государства. В то же время специалисты признают сложность задачи: технологии ASML, включая экстремальную ультрафиолетовую литографию (EUV), основаны на многолетних наработках и уникальных цепочках поставок компонентов. Поэтому путь к самостоятельности может занять годы и потребует сотрудничества между университетами, НИИ и промышленными предприятиями. Однако участники рынка считают, что даже частичная локализация критических узлов производства снизит уязвимость отрасли и даст стимул для развития собственной научно-технической базы. Инициатива уже привлекла внимание регуляторов и государственных органов, которые рассматривают возможные меры поддержки — от финансирования исследований до налоговых льгот и программ по подготовке кадров.

В ближайшие годы ключевым вопросом останется, сможет ли Китай выстроить конкурентоспособную альтернативу ASML и насколько быстро это изменит расстановку сил в глобальной полупроводниковой индустрии.